МОДЕЛЮВАННЯ ВПЛИВУ УМОВ НАПИЛЕННЯ НА ПРОЦЕС ФАЗОУТВОРЕННЯ В СИСТЕМІ NI-AL МЕТОДОМ МОЛЕКУЛЯРНОЇ ДИНАМИКИ

V. Bezpalchuk

Abstract


У роботі представлена комп’ютерна модель процесу напилення атомів нікелю на поверхню наноплівки з атомів алюмінію. Показано вплив початкових умов (температури, густини потоку) на сам процес напилення і формування структур на контакті. Встановлено, що у випадку напилення при достатньо високій температурі в зоні контакту виникає впорядкована фаза з ОЦК решіткою, присутність якої робить контактне плавлення неможливим. Комп’ютерне моделювання проводилось за допомогою класичного методу молекулярної динаміки з використанням ЕАМ потенціалу міжатомної взаємодії 


Keywords


молекулярна динаміка; система Ni-Al; напилення; твердий розчин; наноплівка; метод зануреного атому; радіальна функція розподілу.

References


1. Мержанов А.Г. Твердопламенное горение / А.Г. Мержанов, А.С. Мукасьян. – М.: ТОРУС ПРЕСС, 2007. – 336 с.

2. Hwang S.-F Molecular dynamic simulation for Cu cluster deposition on Si substrate / Shun-Fa Hwang, Yi-Hung Li, Zheng-Han Hong // Computational Materials Science 56. – 2012. – p.85-94

3. Kim S.-P. A Molecular Dynamics Study of the Deposition and the Diffusion Behaviors of Al on a Cu Surface / S.-P. Kim, K.-R. Lee, Y.-C. Chung, M. Doiand M. Sahashi // Journal of the Korean Physical Society, Vol. 52, No.

4. – 2008. – 1240-1245 4. Moarrefzadeh A. Simulation and Modeling of Physical Vapor Deposition (PVD) Process / Ali Moarrefzadeh // WSEAS transactions on applied and theoretical mechanics, Issue 2, Vol.7. – 2012

5. Storozhuk N.V. Mean-field and quasi-phase-field models of nucleation and phase competition in reactive diffusion / N.V. Storozhuk, K.V. Sopiga and A.M. Gusak // Philosophical Magazine, 1–14, iFirst Article. – 2012.

6. M.M.P. Janssen, G.D. Rieck, Trans. metall. Soc. A.I.M.E., 239: 1372 (1967).

7. M.M.P. Janssen, Metall Trans, 4: 1623 (1973).

8. Baras F. Molecular dynamics simulations of nanometric metallic multilayers: Reactivity of the Ni-Al system / Florence Baras, Olivier Politano //Physical Review B84, 024113 – 2011.

9. Politano F. Microstructure development during NiAl intermetallic synthesis in reactive Ni–Al nanolayers: Numerical investigations vs. TEM observations / O. Politano, F. Baras, A.S. Mukasyan, S.G. Vadchenko, A.S. Rogachev // Surface & Coatings Technology. – 2013. – V. 215 – p.485-492.

10. Rogachev A.S. Structure evolution and reaction mechanism in the Ni/Al reactive multilayer nanofoils / A.S. Rogachev, S.G. Vadchenkoa, F. Baras, O. Politano, S. Rouvimov, N.V. Sachkova, A.S. Mukasyan // Acta Materialia, Vol.66. – 2014. – p. 86-96.

11. Mishin Y. Embedded-atom potential for B2-NiAl / Y. Mishin, M. J. Mehl, D. A. Papaconstantopoulos // Physical Review B, Vol. 65, 224114 – 2002.

12. Rapaport D.C. The Art of Molecular Dynamics Simulation / D.C. Rapaport – Cambridge University Press New York, NY, USA. – 2004. – 564 pp. 

13. Frenkel D. Understanding Molecular Simulation / Daan Frenkel, Berend Smith. – Computational Science Series Academic Press, San Diego. – 2002. – 658 pp.

14. Stukowski A. Visualization and analysis of atomistic simulation data with OVITO - the Open Visualization Tool / A. Stukowski // Modelling Simul. Mater. Sci. Eng. 18 .– 2010.


Full Text: PDF (Українська)

Refbacks

  • There are currently no refbacks.
Archive
2014 18 38
2015 18 38
2016 1-2  

User

Journal Content

Browse

Language